In che modo l'ugello di spruzzatura ad ultrasuoni riveste il fotoresist?

La tecnologia di rivestimento a spruzzo ad ultrasuoni è una nuova tecnologia che attualmente svolge un ruolo significativo in vari settori. Un numero sempre maggiore di clienti ora sceglie l'ugello ad ultrasuoni per il rivestimento. Rispetto alla tradizionale spruzzatura a due-fluidi, la spruzzatura a ultrasuoni offre vantaggi significativi in ​​termini di qualità del rivestimento, utilizzo dei materiali e compatibilità del processo.

 

La nostra azienda offre servizi di test di campioni gratuiti e un numero crescente di clienti ci invia campioni da testare. La nostra attrezzatura ha ricevuto recensioni positive e riconoscimenti dai nostri clienti.

 

Oggi parleremo della spruzzatura di fotoresist ad ultrasuoni, un tipo relativamente comune di spruzzatura di materiali.

 

Il fotoresist è un materiale a film sottile sensibile alla luce o alle radiazioni e viene utilizzato principalmente per la modellazione fine in campi quali circuiti integrati e pannelli di visualizzazione. Serve come rivestimento resistente all'incisione-nel processo di fotolitografia. La sua solubilità cambia con l'esposizione alla luce, formando lo schema circuitale desiderato. I fotoresist sono classificati in tono-positivo (le aree esposte si dissolvono) e tono-negativo (le aree non esposte si dissolvono). A seconda della sorgente luminosa di esposizione, sono classificati in UV, UV profondi, UV estremi e resiste al fascio di elettroni.

Il nucleo della tecnologia di spruzzatura dell'atomizzazione del fotoresist ad ultrasuoni è l'uso dell'energia di vibrazione ultrasonica per ottenere un'atomizzazione efficiente e uniforme del fotoresist. Il controllo preciso del flusso d'aria distribuisce quindi le goccioline atomizzate sulla superficie del substrato, formando un rivestimento di alta-qualità. Il processo può essere suddiviso in tre fasi fondamentali:

 

 

1. Atomizzazione del fotoresist: le vibrazioni ad alta-frequenza abbattono la tensione superficiale del liquido.

Il componente principale della tecnologia di spruzzatura ad ultrasuoni è l'ugello di nebulizzazione ad ultrasuoni, che ospita un vibratore ceramico piezoelettrico. Quando un segnale elettrico ad alta-frequenza viene applicato al vibratore, genera vibrazioni meccaniche alla stessa frequenza, trasmettendo l'energia vibrazionale alla superficie di nebulizzazione dell'ugello. Dopo che il fotoresist è stato erogato alla superficie di atomizzazione attraverso il sistema di alimentazione del liquido, le vibrazioni ad alta-frequenza abbattono rapidamente la tensione superficiale del liquido, formando goccioline di dimensioni micron-con un diametro uniforme (tipicamente 5μm-50μm).

Rispetto alla tradizionale atomizzazione a pressione (che si basa sul flusso d'aria ad alta-pressione per rompere il liquido), l'atomizzazione a ultrasuoni elimina la necessità di interferenze del flusso d'aria ad alta-pressione, con conseguente distribuzione delle dimensioni delle goccioline più uniforme (entro ±10%). Inoltre, evita gli schizzi di goccioline o il disturbo della superficie del substrato a causa dell'impatto del flusso d'aria.

 

2. Controllo preciso del percorso di trasferimento

La nostra azienda dispone di ingegneri di programmazione professionisti che possono programmare in modo indipendente il percorso di spruzzatura dell'atomizzazione. Possiamo anche personalizzare diversi percorsi di spruzzatura in base alle esigenze del cliente. Abbiamo un'esperienza matura nella produzione di macchine complete. Per ogni dispositivo, lo programmiamo per il cliente. Sullo schermo, il cliente vede il percorso di spruzzatura-in tempo reale. Oltre alla selezione del percorso, dobbiamo anche regolare la velocità del flusso d'aria (per controllare la distanza di trasferimento, in genere 5-50 mm) e la posizione relativa dell'ugello e del substrato (utilizzando un braccio robotico o una fase di traslazione per il posizionamento tridimensionale). Ci assicuriamo che le particelle atomizzate raggiungano la superficie del substrato verticalmente e in modo uniforme, evitando uno spessore del rivestimento irregolare causato dalla turbolenza del flusso d'aria.

3. Formazione della pellicola di rivestimento: la polimerizzazione a bassa-temperatura garantisce l'integrità strutturale

Dopo che le goccioline atomizzate si sono depositate sulla superficie del substrato, vengono sottoposte a un processo di polimerizzazione a bassa-temperatura (tipicamente 60 gradi -120 gradi, molto inferiore alle temperature di polimerizzazione ad alta-temperatura del tradizionale rivestimento a rotazione) per formare una pellicola. La polimerizzazione a bassa temperatura non solo previene la deformazione del substrato o il degrado del materiale causato dalle alte temperature, ma riduce anche l'accumulo di stress all'interno del fotoresist, migliorando l'adesione del rivestimento e l'integrità strutturale, ponendo una buona base per i successivi processi fotolitografici.